電鍍專用活性炭主要用于鍍鎳、氫化鍍銅、鍍銀、及銅錫合金、HEDP鍍銅、鍍烙等金屬精加工。產(chǎn)品吸附效果好，因而使鍍層無(wú)脆性并防止鍍層發(fā)花現(xiàn)象產(chǎn)生。
電鍍專用活性炭技術(shù)指標(biāo)：
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項(xiàng) 目
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指標(biāo)
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粒度50-80目
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%
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≥90
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碘吸附值
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mg/g
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≥950
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亞甲蘭吸附值
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ml
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≥9
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表觀密度
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g/ml
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≤0.45
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水分
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%
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≤10
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可容性灰分
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在HEDP鍍液中顯陰性
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未列項(xiàng)目質(zhì)量指標(biāo)可按客戶要求生產(chǎn)適用對(duì)口電鍍專用活性炭產(chǎn)品
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電鍍專用活性炭應(yīng)用領(lǐng)域：
電鍍專用活性炭主要適用于電鍍廠電鍍液雜質(zhì)的去除及電鍍廢水的電鍍專用炭，對(duì)于電鍍液 的提純、除雜是提高鍍件產(chǎn)品質(zhì)量的重要手段之一，它能使鍍層均勻、結(jié)晶細(xì)致、孔隙率小，結(jié)合牢固。電鍍專用活性炭在電鍍槽里，將配制好的電鍍液加以攪拌以后，放入電鍍用活性炭素，再繼續(xù)攪拌約半小時(shí)后，既可使之慢慢沉淀，它的提純、除雜工序就完成了。
電鍍專用活性炭使用方法：
在電鍍槽里，將配制好的電鍍液加以攪拌以后，放入電鍍專用活性炭，再繼續(xù)攪拌約半小時(shí)后，既可使之慢慢沉淀。
電鍍專用活性炭?jī)艋円鹤⒁馐马?xiàng)：
(1)選用適合的活性炭產(chǎn)品。市場(chǎng)上出售的活性炭有顆粒狀和粉末狀兩類，使用顆粒狀活性炭過(guò)濾較方便，但處理效果遠(yuǎn)不及粉末狀活性炭，其原因是粉末狀比顆粒狀的比表面積要大得多，使用時(shí)應(yīng)根據(jù)鍍液污染程度來(lái)選擇。
(2)活性炭中應(yīng)不含對(duì)鍍液有害的雜質(zhì)離子。目前，制造活性炭的原料主要是木、煤和硬殼堅(jiān)果類(如椰子)的果殼。實(shí)踐證明:在鍍液凈化中，以硬果殼類為原料制造的活性炭?jī)?yōu)于用煤為原料制造的活性炭產(chǎn)品。劣質(zhì)的活性炭常含較多的鋅等雜質(zhì)，不宜使用。如用含鋅雜質(zhì)的活性炭用在鍍鎳液凈化處理中，則會(huì)造成更惡劣的污染結(jié)果(此類事例并不鮮見)。
(3)用量要充分。對(duì)有機(jī)雜質(zhì)污染程度不同的鍍液，應(yīng)采取適當(dāng)?shù)耐度肓浚话銥?～5g/L，如用量不足，則處理效果欠佳。也可用小工藝試驗(yàn)槽或赫爾槽通過(guò)小試確定活性炭的用量。
(4)被處理鍍液的θ和pH要適當(dāng)。多數(shù)鍍液采用θ為55～70℃、pH為5～6條件下處理效果較好。在處理全過(guò)程中θ和pH應(yīng)保持穩(wěn)定。
(5)攪拌要充分、均勻。采用循環(huán)過(guò)濾和壓縮空氣進(jìn)行間歇強(qiáng)力攪拌為宜，如采用人力操作攪拌，應(yīng)不間斷地在鍍槽中各處進(jìn)行，不可留有死角。t攪拌一般應(yīng)在2～4h。
(6)靜置時(shí)間。吸附過(guò)程完成后，應(yīng)將鍍液靜置一段時(shí)間再進(jìn)行過(guò)濾，t靜止為6～12h;充分沉淀后，過(guò)濾2～3次，直至鍍液中無(wú)殘留粉狀活性炭，鍍液呈本體顏色(無(wú)炭黑色)為止。
(7)防止脫附。采用活性炭連續(xù)循環(huán)過(guò)濾的電鍍工藝，活性炭吸附飽和時(shí)，應(yīng)及時(shí)清理更換濾芯中的活性炭，防止發(fā)生脫附，雜質(zhì)重新污染鍍液。